1、先分析下原图，绿色箭头所示部分有点曝光过渡。 
3、加上图层蒙版，把图层混合模式改为“正片叠底”。由于“正片叠底”会使图像变暗，但由于蒙版的保护，所以它只会使我们选取的区域变暗，而不会影响其它地方。为了使明暗的地方平常过渡，再执行：滤镜 > 模糊 > 高斯模糊，数值自定，然后再适当降低该层的不透明度，过曝的问题得到一定程度改善。 
5、鼻梁、左脸和眉毛部仍有部分不协调的地方。新建一空白层，我们用仿制图章工具来处理这些地方。因为“正片叠底”能降低图像亮度，所以我们把仿制图章的属性页设为“正片叠底”，并降低其不透明度，数值为“对所有图层取样”，按住Alt键在较暗的皮肤上取样，在高光处涂抹，如下图。 
7、为了使处理的地方更加平常过度，按住Shift键，同时选中上面三个层，并把这三个层建成一个组，取名叫处理高光组。 
原文：http://www.jb51.net/photoshop/12551.html